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V-III ratio effect on cubic GaN grown by RF plasma assisted gas source MBE
Li Wei Sung
*
, Hao Hsiung Lin,
Chih Ta Chia
*
此作品的通信作者
研究成果
:
雜誌貢獻
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會議論文
›
同行評審
總覽
指紋
指紋
深入研究「V-III ratio effect on cubic GaN grown by RF plasma assisted gas source MBE」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering & Materials Science
Molecular beam epitaxy
100%
Plasmas
59%
Gases
36%
Photoluminescence
26%
Growth temperature
26%
Raman scattering
23%
Deposition rates
20%
Optical properties
20%
Crystallinity
19%
Fluxes
13%
Substrates
11%
Chemical Compounds
Cubic Space Group
53%
Plasma
40%
Gas
34%
Liquid Film
31%
Photoluminescence
12%
Crystallinity
12%
Optical Property
11%
Physics & Astronomy
gases
33%
crystallinity
11%
diagrams
10%
Raman spectra
9%
photoluminescence
9%
optical properties
8%
temperature
3%