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學生論文
Thin Relaxed SiGe Layers for Strained Si CMOS
P. S. Chen
*
, S. W. Lee
,
M. H. Lee
, C. W. Liu
, M. J. Tsai
*
此作品的通信作者
研究成果
:
書貢獻/報告類型
›
會議論文篇章
總覽
指紋
指紋
深入研究「Thin Relaxed SiGe Layers for Strained Si CMOS」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Material Science
Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor
100%
Lattice Mismatch
100%
Epilayers
100%
Surface (Surface Science)
100%
Nanostructure
100%
INIS
layers
100%
germanium silicides
100%
buffers
66%
surfaces
11%
cost
11%
mobility
11%
nanostructures
11%
thickness
11%
reduction
11%
dislocations
11%
crystal defects
11%
mosfet
11%