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Thin Relaxed SiGe Layers for Strained Si CMOS
P. S. Chen
*
, S. W. Lee,
M. H. Lee
, C. W. Liu, M. J. Tsai
*
此作品的通信作者
研究成果
:
書貢獻/報告類型
›
會議論文篇章
總覽
指紋
指紋
深入研究「Thin Relaxed SiGe Layers for Strained Si CMOS」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering & Materials Science
Lattice mismatch
100%
Epilayers
95%
Nanostructures
68%
Costs
21%