Thermal stability study of Si cap/ultrathin Ge/Si and strained Si/Si 1-xGex/Si nMOSFETs with HfO2 gate dielectric

  • C. C. Yeo*
  • , B. J. Cho
  • , M. H. Lee
  • , C. W. Liu
  • , K. J. Choi
  • , T. W. Lee
    • *此作品的通信作者

研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審

1 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Thermal stability study of Si cap/ultrathin Ge/Si and strained Si/Si 1-xGex/Si nMOSFETs with HfO2 gate dielectric」主題。共同形成了獨特的指紋。

INIS

Material Science

Engineering