The interface properties of SiO2/strained-si with carbon incorporation surface channel MOSFETs

M. H. Lee, S. T. Chang, S. Maikap, C. Y. Yu, C. W. Liu

    研究成果: 書貢獻/報告類型會議貢獻

    指紋 深入研究「The interface properties of SiO<sub>2</sub>/strained-si with carbon incorporation surface channel MOSFETs」主題。共同形成了獨特的指紋。