Surface plasmons and breakdown in thin silicon dioxide films on silicon
Jong Hyun Kim*, Julian J. Sanchez, Thomas A. DeMassa, Mohammed T. Quddus, David Smith, Farhad Shaapur, Karl Weiss, Chuan H. Liu
*此作品的通信作者
研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審
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引文
斯高帕斯(Scopus)