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Sputtering process parameters to structural and electrical properties of indium zinc oxide thin films
J. H. Hsieh, Chuan Li
*
,
S. J. Liu
, W. S. Lin
*
此作品的通信作者
物理學系
研究成果
:
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同行評審
5
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「Sputtering process parameters to structural and electrical properties of indium zinc oxide thin films」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Chemistry
Liquid Film
100%
Electrical Property
100%
Zinc Oxide
100%
Indium
100%
Plasma
28%
Probe
28%
Structure
14%
Application
14%
Electron Particle
14%
Density
14%
Glass Substrate
14%
Ion
14%
Correlation
14%
Magnetron Sputtering
14%
Solar Energy
14%
Oxide
14%
Resistance
14%
Aluminum
14%
Transmittance
14%
Resistivity
14%
X-Ray Diffraction
14%
Water Vapor
14%
Plasma Diagnostics
14%
Material Science
Electrical Property
100%
Thin Films
100%
Zinc Oxide
100%
Density
14%
Magnetron Sputtering
14%
Glass
14%
Electrical Conductivity
14%
Electrical Resistivity
14%
Transparent Conducting Oxide
14%
Water Vapor
14%
INIS
plasma potential
14%
langmuir probe
14%
plasma diagnostics
14%