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Sputter-cleaning of an aluminum alloy using a thermionically assisted triode plasma system
J. H. Hsieh
*
, C. Li,
S. J. Liu
*
此作品的通信作者
物理學系
研究成果
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同行評審
1
引文 斯高帕斯(Scopus)
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指紋
指紋
深入研究「Sputter-cleaning of an aluminum alloy using a thermionically assisted triode plasma system」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
INIS
aluminium alloys
100%
plasma
100%
sputtering
100%
cleaning
100%
surfaces
40%
yields
40%
electrons
40%
cathodes
40%
comparative evaluations
20%
energy
20%
monitoring
20%
efficiency
20%
nanostructures
20%
substrates
20%
particles
20%
oxides
20%
curves
20%
removal
20%
metals
20%
mathematical models
20%
aluminum
20%
ion beams
20%
Physics
Aluminium
100%
Alloy
100%
Cleaning
100%
Electrons
40%
Model
20%
Pressure
20%
Particle
20%
Nanoscale
20%
Oxide
20%
Substrates
20%
Metal
20%
Ion
20%
Material Science
Aluminum Alloys
100%
Diode
100%
Cathode
66%
Surface
33%
Oxide
33%
Particle
33%
Metal
33%
Aluminum
33%
Ion Implantation
33%
Rough Surface
33%
Engineering
Secondary Electron
66%
Bombardment
33%
Aluminum Metal
33%
Earth and Planetary Sciences
Aluminum Alloy
100%