Rapid post-metallization annealing effects on high-k Y2O3/Si capacitor

T. S. Lay*, Y. Y. Liao, W. D. Liu, Y. H. Lai, W. H. Hung, J. Kwo, M. Hong, J. P. Mannaerts

*此作品的通信作者

研究成果: 雜誌貢獻期刊論文同行評審

9 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Rapid post-metallization annealing effects on high-k Y2O3/Si capacitor」主題。共同形成了獨特的指紋。

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