Quantum geometric spin frustration of antiferromagnetic CuFeO2 enables photocatalytic applications

  • Xiang Lin Huang
  • , Sz Chian Liou
  • , Meng Yu Kao
  • , Tan Ju Yang
  • , Hsin An Chen
  • , Hsiao Wen Chen
  • , Hsiang Lin Liu
  • , Wei Tin Chen
  • , Guo Jiun Shu*
  • *此作品的通信作者

研究成果: 雜誌貢獻期刊論文同行評審

3   !!Link opens in a new tab 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Quantum geometric spin frustration of antiferromagnetic CuFeO2 enables photocatalytic applications」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式

INIS

Chemistry

Material Science