Properties and reliability of ultrathin oxides grown on four inch diameter silicon wafers by microwave plasma afterglow oxidation
- Cheng Rong Chen*
- , Shu Fen Hu
- , Po Ching Chen
- , Huey Liang Hwang
- , Liang Choo Hsia
*此作品的通信作者
研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審
2
!!Link opens in a new tab
引文
斯高帕斯（Scopus）