Properties and reliability of ultrathin oxides grown on four inch diameter silicon wafers by microwave plasma afterglow oxidation
Cheng Rong Chen*, Shu Fen Hu, Po Ching Chen, Huey Liang Hwang, Liang Choo Hsia
*此作品的通信作者
研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審
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引文
斯高帕斯（Scopus）