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Photocapacitive effect of ferroelectric hafnium-zirconate capacitor structure
Guan Lin Liou,
Chun Hu Cheng
*
, Yu Chien Chiu
*
此作品的通信作者
機電工程學系
研究成果
:
書貢獻/報告類型
›
會議論文篇章
總覽
指紋
指紋
深入研究「Photocapacitive effect of ferroelectric hafnium-zirconate capacitor structure」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
INIS
charges
100%
ferroelectric materials
100%
capacitors
100%
hafnium
100%
zirconates
100%
variations
66%
interfaces
33%
illumination
33%
capacitance
33%
trapping
33%
defects
33%
metals
33%
excitation
33%
semiconductor materials
33%
photons
33%
dipoles
33%
Physics
Capacitor
100%
Hafnium
100%
Ferroelectricity
100%
Variations
66%
Domains
33%
Insulators
33%
Light
33%
Capacitance
33%
Metal
33%
Semiconductor
33%
Photons
33%