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Optimization of BiFeO
3
MFIS capacitors doped niobium by using Taguchi method
K. C. Lin, C. H. Ko,
M. J. Twu
, P. C. Juan, H. Sekiguchi, C. H. Chou
機電工程學系
研究成果
:
書貢獻/報告類型
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會議論文篇章
總覽
指紋
指紋
深入研究「Optimization of BiFeO
3
MFIS capacitors doped niobium by using Taguchi method」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering & Materials Science
Niobium
100%
Taguchi methods
93%
Capacitors
62%
Ions
41%
Leakage currents
36%
Rapid thermal annealing
34%
Data storage equipment
27%
Oxygen vacancies
17%
Ferroelectric materials
14%
Sputtering
14%
Argon
12%
Semiconductor materials
10%
Signal to noise ratio
9%
Oxygen
9%
Metals
7%