Optimal Ge profile design for base transit time of Si/SiGe HBTs

S. T. Chang*, Y. H. Liu, M. H. Lee, S. C. Lu, M. J. Tsai

*此作品的通信作者

研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審

3 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Optimal Ge profile design for base transit time of Si/SiGe HBTs」主題。共同形成了獨特的指紋。

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