跳至主導覽 跳至搜尋 跳過主要內容

Optimal Ge profile design for base transit time of Si/SiGe HBTs

  • S. T. Chang*
  • , Y. H. Liu
  • , M. H. Lee
  • , S. C. Lu
  • , M. J. Tsai
  • *此作品的通信作者

研究成果: 雜誌貢獻期刊論文同行評審

4   !!Link opens in a new tab 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Optimal Ge profile design for base transit time of Si/SiGe HBTs」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式

INIS

Engineering