On-Chip HBM and HMM ESD Protection Design for RF Applications in 40-nm CMOS Process

Jie Ting Chen, Chun Yu Lin, Rong Kun Chang, Ming Dou Ker*

*此作品的通信作者

研究成果: 雜誌貢獻期刊論文同行評審

7 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「On-Chip HBM and HMM ESD Protection Design for RF Applications in 40-nm CMOS Process」主題。共同形成了獨特的指紋。

Chemical Compounds

Engineering & Materials Science