Novel positive-tone thick photoresist for high aspect ratio microsystem technology
- G. W. Hsieh
- , Y. S. Hsieh
- , C. R. Yang
- , Y. D. Lee*
*此作品的通信作者
研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審
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引文
斯高帕斯（Scopus）