Negative capacitance FETs with steep switching by ferroelectric Hf-based oxide

M. H. Lee*, P. G. Chen, S. T. Fan, C. Y. Kuo, H. H. Chen, S. S. Gu, Y. C. Chou, C. H. Tang, R. C. Hong, Z. Y. Wang, M. H. Liao, K. S. Li, M. C. Chen, C. W. Liu

*此作品的通信作者

研究成果: 書貢獻/報告類型會議論文篇章

6 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Negative capacitance FETs with steep switching by ferroelectric Hf-based oxide」主題。共同形成了獨特的指紋。

INIS

Material Science