Negative bias temperature instability (NBTI) in deep sub-micron p+-gate pMOSFETs

Y. F. Chen*, M. H. Lin, C. H. Chou, W. C. Chang, S. C. Huang, Y. J. Chang, K. Y. Fu, M. T. Lee, C. H. Liu, S. K. Fan

*此作品的通信作者

研究成果: 會議貢獻類型會議論文同行評審

20 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Negative bias temperature instability (NBTI) in deep sub-micron p<sup>+</sup>-gate pMOSFETs」主題。共同形成了獨特的指紋。

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