MeV Al+ and Al2+ ions implantation in Si(100): surface roughness and defects in the bulk
- G. Kuri*
- , T. R. Yang
*此作品的通信作者
研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審
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引文
斯高帕斯（Scopus）