MeV Al+ and Al2+ ions implantation in Si(100): surface roughness and defects in the bulk

G. Kuri*, T. R. Yang

*此作品的通信作者

研究成果: 雜誌貢獻期刊論文同行評審

2 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「MeV Al+ and Al2+ ions implantation in Si(100): surface roughness and defects in the bulk」主題。共同形成了獨特的指紋。

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