Metal gate/High-K dielectric stack on Si cap/ultra-thin pure Ge epi/Si substrate

Chia Ching Yeo, M. H. Lee, C. W. Liu, K. J. Choi, T. W. Lee, B. J. Cho

研究成果: 書貢獻/報告類型會議論文篇章

指紋

深入研究「Metal gate/High-K dielectric stack on Si cap/ultra-thin pure Ge epi/Si substrate」主題。共同形成了獨特的指紋。

Chemical Compounds

Engineering & Materials Science