Leakage current improvement of Ni/TiNiO/TaN metal-insulator-metal capacitors using optimized N+ plasma treatment and oxygen annealing
C. C. Huang*, C. H. Cheng, Albert Chin, C. P. Chou
*此作品的通信作者
研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審
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引文
斯高帕斯（Scopus）