Investigation of gate-stress engineering in negative capacitance FETs using ferroelectric hafnium aluminum oxides

Chun Hu Cheng*, Chia Chi Fan, Chien Liu, Hsiao Hsuan Hsu, Hsuan Han Chen, Chih Chieh Hsu, Shih An Wang, Chun Yen Chang

*此作品的通信作者

研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審

17 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Investigation of gate-stress engineering in negative capacitance FETs using ferroelectric hafnium aluminum oxides」主題。共同形成了獨特的指紋。

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