Influence of oxygen flow rate on photocatalytic TiO 2 films deposited by rf magnetron sputtering

A. H. Chiou, C. G. Kuo, C. H. Huang, W. F. Wu, C. P. Chou, C. Y. Hsu*

*此作品的通信作者

研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審

9 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Influence of oxygen flow rate on photocatalytic TiO 2 films deposited by rf magnetron sputtering」主題。共同形成了獨特的指紋。

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