Improvement on properties and reliability of ultra-thin silicon oxide (3-5 nm) grown by microwave plasma afterglow at the low temperatures using mixtures of N2O and O2
- C. W. Leu*
- , S. F. Hu
- , P. C. Chen
- , H. L. Hwang
*此作品的通信作者
研究成果: 雜誌貢獻 › 會議論文 › 同行評審
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引文
斯高帕斯（Scopus）