Improvement of ferroelectric properties in undoped hafnium oxide thin films using thermal atomic layer deposition
- Jun Dao Luo
- , He Xin Zhang
- , Zheng Ying Wang
- , Siang Sheng Gu
- , Yun Tien Yeh
- , Hao Tung Chung
- , Kai Chi Chuang
- , Chan Yu Liao
- , Wei Shuo Li
- , Yi Shao Li
- , Kai Shin Li
- , Min Hung Lee
- , Huang Chung Cheng
研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審
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引文
斯高帕斯（Scopus）