Improvement in electrical characteristics of HfO 2 gate dielectrics treated by remote NH 3 plasma
- Li Tien Huang
- , Ming Lun Chang
- , Jhih Jie Huang
- , Hsin Chih Lin
- , Chin Lung Kuo
- , Min Hung Lee
- , Chee Wee Liu
- , Miin Jang Chen*
*此作品的通信作者
研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審
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引文
斯高帕斯（Scopus）