Improvement in electrical characteristics of HfO 2 gate dielectrics treated by remote NH 3 plasma
Li Tien Huang, Ming Lun Chang, Jhih Jie Huang, Hsin Chih Lin, Chin Lung Kuo, Min Hung Lee, Chee Wee Liu, Miin Jang Chen*
*此作品的通信作者
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引文
斯高帕斯（Scopus）