Highly-scaled 3.6-nm ENT trapping layer MONOS device with good retention and endurance

C. Y. Tsai, T. H. Lee, Albert Chin, Hong Wang, C. H. Cheng, F. S. Yeh

研究成果: 書貢獻/報告類型會議論文篇章

13 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Highly-scaled 3.6-nm ENT trapping layer MONOS device with good retention and endurance」主題。共同形成了獨特的指紋。

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