Higher-κ titanium dioxide incorporating LaAlO3 as dielectrics for MIM capacitors

C. H. Cheng*, H. H. Hsu, P. C. Chen, B. H. Liou, Albert Chin, F. S. Yeh

*此作品的通信作者

研究成果: 雜誌貢獻期刊論文同行評審

3 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Higher-κ titanium dioxide incorporating LaAlO3 as dielectrics for MIM capacitors」主題。共同形成了獨特的指紋。

INIS

Physics

Material Science