跳至主導覽 跳至搜尋 跳過主要內容

High-performance MIM capacitors using a high- κ TiZrO dielectric

  • C. H. Cheng
  • , H. C. Pan
  • , S. H. Lin
  • , H. H. Hsu
  • , C. N. Hsiao
  • , C. P. Chou
  • , F. S. Yeh
  • , Albert Chin

研究成果: 雜誌貢獻期刊論文同行評審

10   連結會在新分頁中打開 引文 斯高帕斯(Scopus)

摘要

We have fabricated high- κ NiTiZrOTaN metal-insulator-metal (MIM) capacitors. A low leakage current of 3.3× 10-8 A cm2 at -1 V was obtained for a 18 fFμ m2 capacitance density. For a 5.5 fFμ m2 capacitance density device, a small voltage coefficient of capacitance α of 105 ppm V2 and temperature coefficient of capacitance of 156 ppm°C were measured.

原文英語
頁(從 - 到)G295-G298
期刊Journal of the Electrochemical Society
155
發行號12
DOIs
出版狀態已發佈 - 2008
對外發佈

UN SDG

此研究成果有助於以下永續發展目標

  1. SDG 7 - 可負擔的潔淨能源
    SDG 7 可負擔的潔淨能源

ASJC Scopus subject areas

  • 電子、光磁材料
  • 可再生能源、永續發展與環境
  • 表面、塗料和薄膜
  • 電化學
  • 材料化學

指紋

深入研究「High-performance MIM capacitors using a high- κ TiZrO dielectric」主題。共同形成了獨特的指紋。

引用此