High-performance metal-insulator-metal capacitors with HfTiO/Y 2O3 stacked dielectric

Bing Yue Tsui*, Hsiao Hsuan Hsu, Chun Hu Cheng

*此作品的通信作者

研究成果: 雜誌貢獻期刊論文同行評審

23 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「High-performance metal-insulator-metal capacitors with HfTiO/Y <sub>2</sub>O<sub>3</sub> stacked dielectric」主題。共同形成了獨特的指紋。

Chemical Compounds

Engineering & Materials Science