High-κ gate dielectrics for Ge CMOS and related memory devices

Albert Chin*, P. C. Chen, C. H. Cheng, Y. H. Wu, X. Y. Liu, J. F. Kang

*此作品的通信作者

研究成果: 書貢獻/報告類型 › 會議論文篇章

指紋

深入研究「High-κ gate dielectrics for Ge CMOS and related memory devices」主題。共同形成了獨特的指紋。

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