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Heteroepitaxial growth of sixfold symmetric osmium on Si (111) and Si (100)
Tai Yen Peng
*
,
C. K. Lo
, Y. D. Yao, San Yuan Chen
*
此作品的通信作者
研究成果
:
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期刊論文
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同行評審
6
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「Heteroepitaxial growth of sixfold symmetric osmium on Si (111) and Si (100)」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
INIS
growth
100%
symmetry
100%
osmium
100%
films
60%
layers
60%
buffers
60%
crystal defects
40%
surfaces
20%
density
20%
randomness
20%
manufacturing
20%
metals
20%
epitaxy
20%
fcc lattices
20%
magnetic tunnel junctions
20%
Material Science
Epitaxial Film
20%