跳至主導覽 跳至搜尋 跳過主要內容

Growth of si3 n4 thin films on si(111) surface by rf-n2 plasma nitriding

  • Wei Chun Chen*
  • , Sheng Chen
  • , Tung Yuan Yu
  • , James Su
  • , Hung Pin Chen
  • , Yu Wei Lin
  • , Chin Pao Cheng
  • *此作品的通信作者

研究成果: 雜誌貢獻通訊期刊論文同行評審

10   連結會在新分頁中打開 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Growth of si3 n4 thin films on si(111) surface by rf-n2 plasma nitriding」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式

INIS

Material Science

Engineering