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Growth by molecular beam epitaxy and electrical characterization of Si-doped zinc blende GaN films deposited on β-SiC coated (001) Si substrates
J. G. Kim
*
, A. C. Frenkel,
H. Liu
, R. M. Park
*
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研究成果
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同行評審
75
引文 斯高帕斯(Scopus)
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指紋
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深入研究「Growth by molecular beam epitaxy and electrical characterization of Si-doped zinc blende GaN films deposited on β-SiC coated (001) Si substrates」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Physics & Astronomy
adjusting
30%
cells
20%
characterization
62%
conduction
24%
conduction bands
96%
free radicals
41%
impurities
24%
molecular beam epitaxy
95%
nitrogen
27%
plasma jets
35%
room temperature
20%
temperature
22%
zinc
100%