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Ferroelectric HfZrO FETs for Emerging Technologies
Min Hung Lee
*
*
此作品的通信作者
光電工程學士學位學程
研究成果
:
書貢獻/報告類型
›
會議論文篇章
總覽
指紋
指紋
深入研究「Ferroelectric HfZrO FETs for Emerging Technologies」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering & Materials Science
Ferroelectric materials
100%
Field effect transistors
81%
Oxides
48%
Capacitance
48%
Data storage equipment
34%
Atomic layer deposition
29%
Hysteresis loops
22%
Doping (additives)
21%
Solar cells
20%
Electric potential
19%
Amplification
19%
Polarization
17%
Electric power utilization
13%
Chemical Compounds
Oxide
40%
Voltage
36%
Atomic Layer Epitaxy
29%
Hysteresis
24%
Solar Cell
21%
Polarization
18%
Application
15%