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Ferroelectric HfZrO FETs for Emerging Technologies
Min Hung Lee
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此作品的通信作者
光電工程學士學位學程
研究成果
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指紋
指紋
深入研究「Ferroelectric HfZrO FETs for Emerging Technologies」主題。共同形成了獨特的指紋。
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INIS
ferroelectric materials
100%
capacitance
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oxides
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applications
40%
power
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voltage
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20%
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20%
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solar cells
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Material Science
Field Effect Transistor
100%
Ferroelectric Material
100%
Oxide
60%
Capacitance
60%
Material
20%
Solar Cell
20%
Power Device
20%