Ferroelectric Al:HfO2 negative capacitance FETs

M. H. Lee, P. G. Chen, S. T. Fan, Y. C. Chou, C. Y. Kuo, C. H. Tang, H. H. Chen, S. S. Gu, R. C. Hong, Z. Y. Wang, S. Y. Chen, C. Y. Liao, K. T. Chen, S. T. Chang, M. H. Liao, K. S. Li, C. W. Liu

研究成果: 書貢獻/報告類型會議論文篇章

16 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Ferroelectric Al:HfO<sub>2</sub> negative capacitance FETs」主題。共同形成了獨特的指紋。

Engineering & Materials Science

Physics & Astronomy

Chemical Compounds