Experimental Insights of Reverse Switching Charge for Antiferroelectric Hf.Zr.O

C. Y. Liao, K. Y. Hsiang, C. Y. Lin, Z. F. Lou, Z. X. Li, H. C. Tseng, F. S. Chang, W. C. Ray, C. C. Wang, J. Y. Lee, P. H. Chen, J. H. Tsai, M. H. Liao, M. H. Lee*

*此作品的通信作者

研究成果: 雜誌貢獻期刊論文同行評審

4 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Experimental Insights of Reverse Switching Charge for Antiferroelectric Hf.Zr.O」主題。共同形成了獨特的指紋。

INIS

Physics

Material Science

Chemistry