Enhancement of electrical characteristics and reliability in crystallized ZrO 2 gate dielectrics treated with in-situ atomic layer doping of nitrogen
- Jhih Jie Huang
- , Li Tien Huang
- , Meng Chen Tsai
- , Min Hung Lee
- , Miin Jang Chen*
*此作品的通信作者
研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審
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引文
斯高帕斯（Scopus）