Electrical characterization and dielectric properties of metal-oxide-semiconductor structures using high-K CeZrO4 ternary oxide as gate dielectric
- Pi Chun Juan*
- , Chuan Hsi Liu
- , Cheng Li Lin
- , Shin Chun Ju
- , Main Gwo Chen
- , Ingram Yin Ku Chanf
- , Jong Hong Lu
*此作品的通信作者
研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審
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引文
斯高帕斯（Scopus）