Electrical characterization and carrier transportation in Hf-silicate dielectrics using ALD gate stacks for 90 nm node MOSFETs
H. W. Chen, S. Y. Chen, K. C. Chen, H. S. Huang, C. H. Liu*, F. C. Chiu, K. W. Liu, K. C. Lin, L. W. Cheng, C. T. Lin, G. H. Ma, S. W. Sun
*此作品的通信作者
研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審
14
引文
斯高帕斯(Scopus)