Electrical and optical reliability improvement of HfO₂ gate dielectric by deuterium and hydrogen incorporation

C. Y. Yu^*, T. C. Chen, M. H. Lee, S. H. Huang, L. S. Lee, C. W. Liu

^*此作品的通信作者

研究成果: 會議貢獻類型 › 會議論文 › 同行評審