Effects of various ion-typed surfactants on silicon anisotropic etching properties in KOH and TMAH solutions
- Chii Rong Yang*
- , Po Ying Chen
- , Cheng Hao Yang
- , Yuang Cherng Chiou
- , Rong Tsong Lee
*此作品的通信作者
研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審
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引文
斯高帕斯（Scopus）