Effects of postdeposition annealing on the metal-insulator transition of VO2-x thin films prepared by RF magnetron sputtering
- Shiu Jen Liu*
- , Yu Tai Su
- , Juang Hsin Hsieh
*此作品的通信作者
研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審
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引文
斯高帕斯（Scopus）