Effects of mechanical agitation and surfactant additive on silicon anisotropic etching in alkaline KOH solution

Chii Rong Yang*, Po Ying Chen, Yuang Cherng Chiou, Rong Tsong Lee

*此作品的通信作者

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98 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Effects of mechanical agitation and surfactant additive on silicon anisotropic etching in alkaline KOH solution」主題。共同形成了獨特的指紋。

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