Effects of mechanical agitation and surfactant additive on silicon anisotropic etching in alkaline KOH solution
Chii Rong Yang*, Po Ying Chen, Yuang Cherng Chiou, Rong Tsong Lee
*此作品的通信作者
研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審
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引文
斯高帕斯(Scopus)