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Effects of H
2
flow rate and H
2
plasma treatment on the properties of AZO films
C. G. Kuo
, C. L. Li, C. C. Huang, F. H. Wang, C. F. Yang, I. C. Chen
工業教育學系
研究成果
:
書貢獻/報告類型
›
會議論文篇章
1
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「Effects of H
2
flow rate and H
2
plasma treatment on the properties of AZO films」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering & Materials Science
Plasmas
100%
Flow rate
81%
Optical band gaps
31%
Magnetron sputtering
20%
Light transmission
19%
Crystallization
16%
Aluminum oxide
14%
Temperature
12%
Glass
12%
Defects
10%