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Design of ESD protection cell for dual-band RF applications in a 65-nm CMOS process

  • Li Wei Chu*
  • , Chun Yu Lin
  • , Shiang Yu Tsai
  • , Ming Dou Ker
  • , Ming Hsiang Song
  • , Chewn Pu Jou
  • , Tse Hua Lu
  • , Jen Chou Tseng
  • , Ming Hsien Tsai
  • , Tsun Lai Hsu
  • , Ping Fang Hung
  • , Tzu Heng Chang
  • , Yu Lin Wei
  • *此作品的通信作者

研究成果: 書貢獻/報告類型會議論文篇章

摘要

An ESD protection cell consisted of a diode, a silicon-controlled rectifier SCR a PMOS, and inductors was proposed for dual-band radio-frequency RFESD protection. The proposed ESD protection cell was suitable for RF circuit designers for them to easily apply ESD protection in the dual-band RF circuits.

原文英語
主出版物標題Electrical Overstress/Electrostatic Discharge Symposium Proceedings 2012, EOS/ESD 2012
出版狀態已發佈 - 2012
對外發佈
事件34th International Electrical Overstress/Electrostatic Discharge Symposium, EOS/ESD 2012 - Tucson, AZ, 美国
持續時間: 2012 9月 92012 9月 14

出版系列

名字Electrical Overstress/Electrostatic Discharge Symposium Proceedings
ISSN(列印)0739-5159

其他

其他34th International Electrical Overstress/Electrostatic Discharge Symposium, EOS/ESD 2012
國家/地區美国
城市Tucson, AZ
期間2012/09/092012/09/14

ASJC Scopus subject areas

  • 電氣與電子工程

指紋

深入研究「Design of ESD protection cell for dual-band RF applications in a 65-nm CMOS process」主題。共同形成了獨特的指紋。

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