Current conduction mechanisms of 0.65 nm equivalent oxide thickness HfZrLaO thin films

H. W. Chen*, H. W. Hsu, S. Y. Chen, H. S. Huang, M. C. Wang, C. H. Liu

*此作品的通信作者

研究成果: 書貢獻/報告類型會議論文篇章

指紋

深入研究「Current conduction mechanisms of 0.65 nm equivalent oxide thickness HfZrLaO thin films」主題。共同形成了獨特的指紋。

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