Characterization of silicon-carbon alloy materials for future strained Si metal oxide semiconductor field effect transistors

B. F. Hsieh, S. T. Chang*, M. H. Lee

*此作品的通信作者

研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審

6 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Characterization of silicon-carbon alloy materials for future strained Si metal oxide semiconductor field effect transistors」主題。共同形成了獨特的指紋。

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