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學生論文
Anomalous behavior of LEED beam intensity during annealing
Tsu Yi Fu
, T. F. Liu
, C. W. Su
, C. S. Shern
, R. H. Chen
物理學系
研究成果
:
雜誌貢獻
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期刊論文
›
同行評審
總覽
指紋
指紋
深入研究「Anomalous behavior of LEED beam intensity during annealing」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering
Environmental Design
100%
Stable State
100%
Thin Films
100%
Photoelectron
100%
Interdiffusion
100%
Energy Electron Diffraction
100%
Annealing Effect
100%
INIS
annealing
100%
beams
100%
leed
100%
diffusion
50%
ultraviolet radiation
50%
low energy electron diffraction
50%
thin films
50%
auger electron spectroscopy
50%
photoelectron spectroscopy
50%
debye-waller factor
50%
Material Science
Annealing
100%
Low-Energy Electron Diffraction
100%
Auger Electron Spectroscopy
100%
Ultra Violet Photoemission Spectroscopy
100%
Ultrathin Film
100%
Chemistry
Low Energy Electron Diffraction
100%
Chlordiazepoxide
100%
Auger Electron Spectroscopy
50%
Ultrathin Film
50%
Ultra-Violet Photoelectron Spectroscopy
50%
Interdiffusion
50%
Chemical Engineering
Film
100%