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Analysis of Si:C on relaxed SiGe by reciprocal space mapping for MOSFET applications
M. H. Lee
, P. G. Chen, S. T. Chang
光電工程學士學位學程
研究成果
:
雜誌貢獻
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期刊論文
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同行評審
3
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「Analysis of Si:C on relaxed SiGe by reciprocal space mapping for MOSFET applications」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering & Materials Science
Germanium
100%
MOSFET devices
87%
Silicon
58%
Lattice mismatch
38%
Carbon
32%
Electron mobility
16%
Carrier mobility
15%
Substrates
15%
Electric fields
9%
Chemical Compounds
Field Effect
74%
Alloy
52%
Strain
52%
Compound Mobility
38%
Carbon Atom
35%
Electron Mobility
29%
Application
23%
Electric Field
22%
Surface
7%